CURSO: ELIPSOMETRlA PARA LA CARACTERIZACION DE MATERIALES
DEPARTAMENTO: Programa de postgrado en Ciencias Físicas
PROPUESTA DE: Roberto Machorro, CCMC-UNAM, 30 septiembre, 1997
VIGENCIA: ?
REQUISISTOS: Propiedades Opticas de Sólidos, Electromagnetismo
OBJETIVO:
Aplicacion de la tecnica de elipsometría en la caracterización de materiales. Presentación de los fundamentos teóricos y prácticos del tema. Un aspecto fundamental es la sección experimental del curso.
CREDITOS: 6
HORAS DE TEORIA: 40
HORAS DE LAB: 8
TOTAL DE HORAS 48
TEMARIO
1.- POLARIZACION DE LA LUZ 6 Horas
Estados de polarizacion Parametros de Stokes
Vector de Jones
Estados ortogonales
2.- PROP AGACION DE LUZ POLARIZADA EN 10 Horas
SISTEMAS OPTICOS POLARIZANTES
Matriz de Jones. Casos especiales.
Dispositivos por reflexión
Función de transferencia de la polarización
Separación de informacion contenida en amplitud y fase
Valores propios
3.- MEDICION EN SISTEMAS ELIPSOMETRICOS 6 Horas
Sistemas ópticos con valores propios conocidos
Valores propios de un sistema en términos de pol-propias ortogonales lineales
4.- ELIPSOMETRlA EXPERIMENTAL 12 Horas
Elipsómetros nulos
Elipsómetros estáticos
Elipsómetros fotométricos
Elipsómetro dinámico Configuraciones
5.- INVERSION DE LAS Ec. ELIPSOMETRICAS 12 Horas
TEMARIO DEL LABORATORIO
Consta de 2 prácticas, los experimentos se realizarán en las instalaciones del CCMC (Lab. Propiedades Opticas).
1.- Depósito de una capa delgada sobre oblea de Silicio, empleando ablación láser.
A escoger: Alumina, SiOz, Au, Ag, AI, etc. .
Control del depósito por elipsómetría cinética
Caracterización con elipsómetría in-situ.
Análisis de resultados
2.- Depósito de multicapas usando cañón de electrones.
A escoger: antireflectora, divisor de haz, filtro pasa banda, etc.
Control del depósito por reflectometría y balanza de cuarzo
Caracterización con elipsometría ex-situ
Análisis de resultados
Texto
Ellipsometry and polarized light, RM.A. Azzam y N.M. Bashara, North Holland Pub!. 1987
Referencias
Bibliografia basada en articulos de Aspnes