CURSO: Espectrofísica

DEPARTAMENTO: Programa de postgrado en Física de Materiales

PROPUESTA DE: Roberto Machorro, CCMC-UNAM, 30 noviembre 2001

VIGENCIA:

REQUISISTOS: ELECTROMAGNETISMO NIVEL LICENCIATURA

OBJETIVO: Se dan los fundamentos de la interacción de espectrocoía, tanto en la parte teórica como en la instrumentacion. De especial importancia es el estudio del procceso de emisión de líneas espectrales, particularmente en luz emitida por plasmas. Se revisa la técnica de crecimiento de capas delgadas empleando plasma generado por láser de alta potencia. Asimismo se revisan algunas técnicas de caracterización tanto del proceso como de las capas depositadas.

CREDITOS: 6

HORAS DE TEORIA: 48

HORAS DE LAB: 0

TOTAL DE HORAS 48

TEMARIO

1.- Espectroscopia aprox 15 horas

Espectroscopía en bajas frecuencias

Ancho y forma de las lineas espectrales

Emisión y absorción de líneas de radiación

Determinación experimental de probabilidades de transición y tiempos de vida

Espectroscopía elemental de plasma

Ref. A.P. Thorne, Spectrophysics, Chapman and Hall, 2001

H.R. Griem, Principles of Plasma Spectroscopy, McGraw-Hill (1997)

2.- Instrumentacion aprox 10 horas

Fuentes de luz

Detectores

Diodos, Fotomultiplicador, CCD

Espectrómetros

Parametros importantes a considerar

Ref. A.P. Thorne, Spectrophysics, Springer Verlag, 2001

Building scientific apparatus

3.- Crecimiento de capas aprox 10 horas

Ablacion laser

Principio fisico de funcionamiento

Efecto del plasma en la formacion de capas delgadas

Otras condiciones que afectan a la capa

Desbastamientio ionico de Radio frecuencia

Principio fisico de funcionamiento

Efecto del plasma en la formacion de capas delgadas

Otras condiciones que afectan a la capa

Ref. a) Douglas B. Chrisey, and G.K Hubler, Pulser laser deposition thin films, John Willey and Sons, NY 1994

b) Bunshah, Deposition technologies for films and coatings, Noyes

4.- Caracterización de materiales aprox 13 horas

Espectroscopias ópticas

Elipsometría

Ref. Woolam, Notas de elipsometría para elWVASE32

Azzam y Bashara, Ellipsometry, Academic Press 1990

Espectroscopia de campo

Ref. A.P. Thorne, Spectrophysics, Springer Verlag, 2001

Reflectometría

XPS

AES